PanoramicaLa SYRUS 1100 è un impianto di deposizione sottovuoto per lenti oftalmiche, progettato per la produzione in grandi lotti di lenti stock e per la fabbricazione RX. Supporta rivestimenti AR a banda larga, rivestimenti a specchio e processi ottici speciali con configurazioni di camera e moduli processo modulari.
Vantaggi principali- Progettata per grandi volumi: adatta alla produzione massiva di lenti stock e RX; capacità indicativa di 350–960 paia in 8 ore a seconda del processo e della configurazione.
- Costo per lente competitivo: distribuzione del rivestimento uniforme e stabilità cromatica riproducibile sulla calotta, riducendo scarti e costi unitari.
- Opzioni camera flessibili: diametri di camera standard 1100 mm e 1350 mm per adattare la capacità produttiva.
Caratteristiche principali- Tempi di ciclo ottimizzati: pompe e sistemi di trappola Meissner ottimizzati garantiscono tempi di svuotamento rapidi e ridotti tempi di ciclo porta-a-porta.
- Controllo di uniformità: fino a due maschere di distribuzione/uniformità (una fissa, una mobile) per adattare il profilo di deposizione e massimizzare la resa utile.
- Sistemi di evaporazione modulari: compatibile con canne e-beam, evaporatori termici e sorgenti ioniche; crogioli proprietari facilmente sostituibili per cambi materiali rapidi.
Altre caratteristiche- Manutenibilità e connettività: predisposizione per rete, analisi remota, logging dei dati e aggiornamenti software remoti per migliorare la disponibilità.
- Portafoglio processi: ampia selezione di componenti e stack di strati collaudati, con possibilità di sviluppo processi personalizzati.
- Sicurezza e controllo processo: interfaccia utente avanzata e sistema con più sensori a cristallo di quarzo per monitoraggio e controllo automatico.
Applicazioni- Rivestimenti antiriflesso a banda larga, rivestimenti a specchio e decorativi, produzione in massa di lenti stock e produzione RX in grandi lotti.
Specifiche tecniche- Modello: SYRUS 1100
- Diametri camera standard: 1100 mm e 1350 mm
- Capacità tipica: ca. 350–960 paia / 8 h (a seconda di processo e configurazione)
- Maschere di uniformità: fino a 2 (una fissa, una mobile)
- Opzioni cupola: cupola segmentata (90° o 120°) o cupola completa
- Componenti di processo: e-beam, evaporatori termici, sorgenti ioniche e altri dispositivi proprietari
- Sistemi di pompaggio e trappole: pilastro di pompaggio ottimizzato e trappole Meissner per ogni dimensione di camera
- Connettività: predisposizione per rete, analisi remota, logging e aggiornamenti software
- Sicurezza processo: sistema multi-sensori a cristallo di quarzo per controllo automatico