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Macchina di evaporazione sotto vuoto antiriflettente DLC 600

Macchina di evaporazione sotto vuoto antiriflettente - DLC 600 - Bühler Group
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Caratteristiche

Specificazioni
antiriflettente

Descrizione

Panoramica
LEYBOLD OPTICS DLC 600 è un impianto di deposizione in vuoto di precisione che utilizza la deposizione chimica da gas assistita da plasma (PECVD) per applicare film di carbonio tipo diamante (DLC) su componenti ottici e di imaging termico. È progettato per ottenere strati DLC duri, uniformi e resistenti agli agenti ambientali, ottimizzati per applicazioni antiriflesso nell'infrarosso su substrati Ge e Si.

Benefici principali
  • Ampia compatibilità dei substrati: Il bloccaggio per gravità consente di processare forme e geometrie varie fino a 300 mm di diametro e circa 30–40 mm di altezza.
  • Prestazioni IR mirate: Parametri di processo e materiali sono tarati per substrati in Ge e Si, migliorando la trasmittanza IR e garantendo prestazioni antiriflesso costanti.
  • Strati DLC protettivi e durevoli: Il sistema deposita film DLC estremamente duri e uniformi con elevata resistenza ambientale per proteggere le superfici ottiche esposte.


Caratteristiche in evidenza
Camera di processo e distribuzione dei gas — uniformità di riferimento: Il design della gas shower del DLC 600 assicura una distribuzione molto uniforme dei gas nella camera, garantendo una crescita del film consistente e un controllo accurato dello spessore su tutta l'area di rivestimento, fondamentale per applicazioni IR e a bassa luce come visione notturna e sensori di distanza.

Monitoraggio ottico in situ — ripetibilità degli stack di strati: Il sistema di monitoraggio ottico OMS 5100 integrato controlla la crescita del film in tempo reale, assicurando tolleranze di spessore e alta ripetibilità affinché gli stack progettati corrispondano al prodotto finito.

Specifiche tecniche
  • Tecnologia di deposizione: plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) per film DLC.
  • Tipo di rivestimento: diamond-like carbon (DLC) — duro, uniforme e resistente agli agenti esterni.
  • Substrati supportati: Germanio (Ge) e Silicio (Si), ottimizzato per anti-riflesso IR.
  • Diametro max. del substrato: fino a 300 mm.
  • Altezza tipica del substrato: circa 30–40 mm.
  • Gestione substrati: bloccaggio per gravità per diverse geometrie.
  • Controllo processo: OMS 5100 monitoraggio ottico in situ per controllo spessore e ripetibilità.
  • Distribuzione gas: gas shower specifica per uniformità eccellente.
  • Codice prodotto: CUBE-00010-019.


Applicazioni tipiche
  • Rivestimenti antiriflesso IR per ottiche di precisione.
  • Strati DLC protettivi per dispositivi per visione notturna e sistemi di imaging termico.
  • Sensori e componenti in banda IR che richiedono rivestimenti durevoli e ripetibili.

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.