PanoramicaLa serie GLC H di LEYBOLD OPTICS è una macchina di deposizione sotto vuoto per vetro che applica mediante sputtering magnetronico rivestimenti low-e, controllo solare, antiriflesso e altri film funzionali su vetro architettonico e automobilistico. Il sistema è progettato per l'ambiente produttivo con configurazioni modulari per adattarsi a requisiti di processo e capacità.
Vantaggi principali- Riduzione del consumo energetico: alimentatori e pompe ad alta efficienza e comparto di processo ottimizzato riducono il consumo senza compromettere le velocità di deposizione.
- Flessibilità dei rivestimenti: supporta low-e, controllo solare, antiriflesso e altri rivestimenti funzionali; layout modulare di magnetron e pompe per cambiare processo o aumentare la capacità.
- Incremento della produttività fino al 25%: gestione del gap che permette solo 30 mm tra substrati consecutivi, migliorando l'efficienza di deposizione e riducendo il consumo di materiale target; minore contaminazione incrociata allunga gli intervalli tra le pulizie.
Caratteristiche principali- Uniformità di spessore e alte velocità di deposizione ottenute tramite un sistema di distribuzione del gas dedicato nella camera di sputtering magnetron, per processi reattivi e non reattivi.
- Elevata disponibilità e campagne estese grazie all'ottimizzazione della raccolta del materiale target, alla riduzione del gap e al controllo avanzato del processo (incluse barre magnetiche regolabili da remoto).
- Riduzione dei tempi di manutenzione: progetto modulare e disposizione ergonomica dei componenti principali per accelerare pulizia e interventi.
Altre funzionalità / Opzioni- Coperchi idraulici opzionali per camere di ingresso, buffer, trasferimento e uscita per evitare movimentazioni pesanti e ridurre l'ingombro in stabilimento.
- Connettività PLC e controllo di rete: compatibile con interfacce PLC comuni e integrabile con MES, sistemi di automazione e gestione dati.
- Opzioni dimensioni vetro: US = 2590 x 4200 mm e Jumbo = 3300 x 6100 mm; modalità combinata disponibile per lastre sovradimensionate; supporto per PLF, DLF, formati tagliati e carico in modalità mista.
- Architettura modulare: due configurazioni base (ingresso/uscita singolo o ingresso/uscita a due stadi) per adattare produttività e consentire upgrade.
Specifiche tecniche- Metodo di deposizione: sputtering magnetronico (reattivo e non reattivo).
- Tipologie di rivestimento: low-e, controllo solare, antiriflesso e altri film funzionali.
- Gap minimo tra substrati: 30 mm (gestione del gap per efficienza e risparmio di target).
- Dimensioni vetro standard: US = 2590 x 4200 mm; Jumbo = 3300 x 6100 mm; modalità combinata disponibile per vetri di lunghezza superiore.
- Spessore vetro supportato: 2–19 mm.
- Configurazioni di rendimento indicative: ingresso/uscita singolo ≈ 2,0–9,0 M m²/anno; ingresso/uscita a due stadi ≈ 5,0–22,0 M m²/anno.
- Controllo avanzato: distribuzione gas per evitare il poisoning dei target (O2, N2), barre magnetiche regolabili a distanza, ottimizzazione dell'utilizzo del target.
- Opzioni: coperchi idraulici, configurazioni modulari magnetron/pompe, connettività PLC/MES.