L'iStack™ S+ è stato progettato per applicazioni di fascia alta epossidiche e di fissaggio di pellicole con flessibilità di processo per supportare sia le applicazioni di memoria che di immagine. Le sue caratteristiche di processo migliorate includono il processo a faccia in giù, UV in situ e il meccanismo di rilevamento della forza di legame, offrendo un miglioramento della produttività e delle prestazioni.
Caratteristiche e opzioni
Kit ad alta precisione (5 μm)
Kit per la manipolazione di substrati sottili (< 100 μm)
Funzioni di mappatura (Substrato / Wafer)
Kit di rimozione della contaminazione di wafer / substrato
Kit OHT / AGV
Kit SMEMA
UV (In-Situ / Post-Bond)
Kit di monitoraggio della contaminazione dell'utensile
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