Piastra di nanoposizionamento vuoto-compatibile LA97 series

linearepiezoelettrica1 asse

LA97 - Assi e stadi lineari per il vuoto Stadio lineare nanometrico HV / UHV fino a 10E-11, corsa 100 - 300 mm, ripetibilità 0,02 µm, carico fino a 10 kg - Vuoto: tutte le aree HV / UHV fino a 10E-11 mbar - Lubrificazione: liquida fino a 10E-8 mbar / secca fino a 10E-11 mbar - Temperatura max. Temperatura di cottura: 120°C Configurabile opzionalmente: - Sono disponibili versioni magnetiche, a basso magnetismo e senza magnetismo - Selezione del materiale e lubrificazione a vuoto adattata all'applicazione - Adattamento individuale alla situazione di installazione nella camera - Versione per camera bianca ISO 14644-1 (fino alla classe 1 su richiesta) - Opzionale con controllore FMC400/450 Posizionamento nanometrico orizzontale e verticale Questo asse lineare per il vuoto è adatto a tutte le gamme HV / UHV fino a 10-11mbar. È universalmente applicabile, in quanto può essere utilizzato anche per compiti di posizionamento verticale. Raggiunge risoluzioni estremamente elevate e la massima rigidità nel vuoto. A seconda del carico da spostare, è possibile utilizzare da 2 a 6 motori con disposizione a tenaglia. Campi di applicazione Applicazioni di scansione ad alta precisione, microassemblaggio, tecnologia dei semiconduttori nel vuoto spinto e sotto radiazione ultravioletta, camere a vuoto, ricerca, strumentazione per linee di luce, assemblaggio e ispezione di componenti elettronici