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Crogiolo per l'industria dei semiconduttori
per trasferimento di metallo in fusioneper applicazioni ad alta temperaturain nitruro di boro

Crogiolo per l'industria dei semiconduttori - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - per trasferimento di metallo in fusione / per applicazioni ad alta temperatura / in nitruro di boro
Crogiolo per l'industria dei semiconduttori - Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd - per trasferimento di metallo in fusione / per applicazioni ad alta temperatura / in nitruro di boro
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Caratteristiche

Specificazioni
in nitruro di boro pirolitico, per applicazioni ad alta temperatura, in nitruro di boro, per trasferimento di metallo in fusione, per l'industria dei semiconduttori

Descrizione

Panoramica
  • INNOVACERA produce un'ampia gamma di componenti ceramici PBN, inclusi dischi, lastre, anelli per filamento, crogioli VGF, crogioli LEC, crogioli MBE, crogioli conici e parti lavorate su misura.


Materiale e fabbricazione
Il nitruro di boro piroolitico (PBN) è prodotto mediante deposizione chimica da vapore (CVD) a partire dal nitruro di boro esagonale (hBN). Il processo CVD allinea i cristalliti di BN parallelamente al substrato, garantendo purezza ultra-elevata (≈99,99 %) e una microstruttura stratificata. Lo spessore massimo tipico della parete per il PBN CVD è di 3 mm; il materiale offre elevata resistenza meccanica adatta ad ambienti ad alto vuoto e applicazioni con metallo fuso.

Applicazioni
  • Componenti per forni a vuoto
  • Crogioli per crescita di cristalli (inclusi crogioli MBE per la produzione di GaAs)
  • Processi di epitassia a fascio molecolare (MBE)
  • Ambientazioni ad alto vuoto e metallo fuso


Proprietà chiave
  • Conducibilità termica anisotropa
  • Alta resistenza elettrica e forte rigidità dielettrica su un'ampia gamma di temperature
  • Purezza ultra-elevata (≈99,99 %)
  • Non bagnabilità e inerzia chimica
  • Non tossico
  • Resistenza ad alte temperature e agli shock termici


Specifiche tecniche
  • Materiale: nitruro di boro piroolitico (PBN) derivato dal nitruro di boro esagonale (hBN)
  • Fabbricazione: deposizione chimica da vapore (CVD)
  • Purezza: ≈99,99 %
  • Struttura CVD: cristalliti allineati parallelamente al substrato
  • Spessore massimo tipico della parete (CVD): 3 mm
  • Meccanica: elevata resistenza meccanica adatta ad ambienti sotto vuoto
  • Termico: conducibilità termica anisotropa; resistente ad alte temperature e agli shock termici
  • Elettrico: alta resistenza di isolamento e forte rigidità dielettrica su un'ampia gamma di temperature
  • Chimico: non bagnabile, chimicamente inerte, non tossico
  • Forme di prodotto tipiche: dischi, lastre, anelli per filamento, crogioli VGF, crogioli LEC, crogioli MBE, crogioli conici, parti lavorate su misura

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