Resine di polimero FUJIFILM

... Materiali per l'imaging positivo a secco e a immersione e per l'imaging a tono negativo (NTI) Caratteristiche e vantaggi Ampia gamma di sistemi di imaging ad alta risoluzione per esposizione a 193 nm, tra cui imaging positivo a secco ...

... Fotoresist KrF a tono positivo che coprono un'ampia gamma di applicazioni La serie GKR offre un'ampia gamma di prodotti, dai film ad alto spessore ai prodotti ad alta risoluzione, per soddisfare le diverse esigenze dei clienti. Serie ...

... Ampia serie di fotoresistenze a media sensibilità per applicazioni critiche e non, con risoluzione da sub-0,30µm a >1,0µm su diversi substrati e con un'ampia gamma di spessori di resistenza. Gamma di prodotti Resist i-Line avanzati per ...

... Serie multipla di resistenze a tono negativo, a base di poliisoprene, applicabili a un'ampia gamma di esigenze di proiezione, prossimità e contatto e di incisione a umido su vari substrati Gamma di prodotti Serie SC Resist Progettata ...

... Serie di resistenze a tono positivo e negativo per un'ampia gamma di applicazioni di imaging a fascio elettronico - Risoluzione superiore - Ampie finestre di processo Gamma di prodotti Serie FEP e serie XFP Le serie FEP e XFP sono ...

... I prodotti PBO amplificati chimicamente di Fujifilm offrono un'elevata affidabilità con bassi costi di gestione. Caratteristiche e vantaggi Materiali ad alto contrasto e a tonalità positiva basati sulla chimica PBO Fotoimmaginabili ...

... Le poliimmidi sviluppabili con solvente di Fujifilm sono una famiglia di precursori di poliimmide fotoimmaginabili e formulazioni preimidificate, che coprono sia le alte che le basse temperature di polimerizzazione per applicazioni di ...

... Fujifilm ha diverse formulazioni di poliimmide non fotosensibili per un'ampia varietà di semiconduttori e applicazioni correlate. Caratteristiche e vantaggi - Spessori finali del rivestimento da 400 angstrom a 25 micron - Opzioni ...