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... allineamento. Ha un modulo di allineamento che dispone di set di inserti per maschere e mandrini per wafer a cambio rapido che consentono l'uso di una varietà di substrati e maschere senza richiedere ...
... L'EVG®610 è un sistema di ricerca e sviluppo compatto e polivalente che può gestire piccoli pezzi di substrato e wafer fino a 200 mm. L'EVG610 supporta una varietà di processi litografici standard, come le modalità di esposizione a vuoto, ...
EV Group
... all'avanguardia per l'allineamento delle maschere su un'area di ingombro minimo fino a 150 mm di dimensione dei wafer. Nota per la sua versatilità e affidabilità, l'EVG620 NT offre una tecnologia di allineamento delle ...
EV Group
...
Questo sistema di esposizione
wafer (Mask Aligner) utilizza un sistema ottico UV originale ottimizzato per esposizioni ad alta definizione e un meccanismo di parallelismo ad alta precisione tra fotomaschera e
wafer. ...
... Panoramica
- Sistema di esposizione wafer (mask aligner) da banco, progettato per R&S e produzione in piccoli lotti.
- Supporta tre modalità di controllo del gap: Hard contact, Soft contact e Proximity gap.
< ...
... >Prodotto
Sistema di esposizione
wafer completamente automatico (mask aligner) per la produzione di chip LED. Compatibile con Micro LED e
wafer LED standard; disponibile in due versioni combinate per
wafer ...
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