PanoramicaIl NUCLEUS è un sistema pick & place di precisione multiuso progettato per processi 2.5D, fan-out e packaging embedded. Supporta le modalità face-up e face-down con allineamento locale e globale per un posizionamento ad alta precisione.
Applicazioni- Packaging wafer-level fan-out (FOWLP) e integrazione di die embedded
- Processi flip-chip e direct die attach, inclusa l'immersione nel flux
- Gestione di substrati wafer nudi, wafer su carrier e substrato su carrier
- Applicazioni di bonding ad alta forza e processi termici
Caratteristiche principali- Allineamento locale e globale preciso per posizionamenti sub-micronici
- Modalità operative face-up e face-down per flussi di assemblaggio diversi
- Gestione diretta di die e wafer nudi, compatibile con carrier
- Sistema di cambio utensile automatico per bonding multi-chip e rapidi cambi formato
- Supporto per alte forze di bonding e controllo termico integrato
- Opzione immersione flux per direct die attach e flip-chip
- Standard di pulizia Classe 100 durante il bonding per processi sensibili alla contaminazione
Altre configurazioni per il mercato- NUCLEUS XD: capacità di gestione die extra-large fino a 70 mm × 70 mm
- NUCLEUS XLplus: capacità di gestione substrati extra-large fino a 600 mm × 670 mm
Specifiche tecniche- Sistema pick & place di precisione multiuso per applicazioni 2.5D, fan-out e embedded
- Operazione: face up e face down
- Allineamento: sistemi di allineamento locale e globale
- Supporto processi: flip-chip, direct die attach (incl. immersione flux), bonding ad alta forza e bonding termico
- Gestione: substrato wafer nudo, wafer su carrier, substrato su carrier
- Automazione: cambio utensile automatico per bonding multi-chip
- Pulizia: standard Classe 100 durante il bonding
- Configurazioni opzionali formato large: NUCLEUS XD (≤ 70 mm × 70 mm die), NUCLEUS XLplus (≤ 600 mm × 670 mm substrate)