Waveplate radiale #3683

in quarzoper conversione di polarizzazione lineare

Panoramica
I convertitori di polarizzazione radiale (S-waveplates) sono ritardatori a variazione spaziale inscritti nella silice fusa che convertono la polarizzazione lineare in polarizzazione radiale o azimutale e la polarizzazione circolare in vortici ottici (fasci a forma di ciambella). Sono progettati per il controllo della polarizzazione in applicazioni di lavorazione laser e manipolazione ottica che richiedono la riduzione del diametro del punto focale o profili a vortice.

Caratteristiche principali

• Converte la polarizzazione lineare in polarizzazione radiale o azimutale
• Converte la polarizzazione circolare in un vortice ottico (fascio a forma di ciambella)
• Elevate soglie di danno compatibili con regimi laser a nanosecondi e femtosecondi
• Versioni di ordine superiore disponibili per generare cariche topologiche maggiori e pattern di polarizzazione complessi

Produzione
I dispositivi sono prodotti mediante iscrizione con laser femtosecondo di nanogratrici auto-organizzate nella silice fusa. Questo processo genera ritardatori a variazione spaziale (S-waveplates) con birifrangenza locale precisa, ottimizzati per applicazioni laser ad alta soglia di danno e prestazioni stabili sotto irradiazione ad alta intensità.

Applicazioni

• Microforatura e microlavorazione ad alto rapporto d’aspetto su metalli e dielettrici
• Microscopia STED e microscopia a fluorescenza a eccitazione a due fotoni utilizzando fasci vortex (a ciambella)
• Microlavorazione laser di materiali trasparenti; combinati con axicon, i convertitori di ordine superiore possono generare fasci di Bessel vettoriali
• Pinzette ottiche e intrappolamento multiplo di particelle utilizzando polarizzazione su misura e profili di fascio vortex

Specifiche tecniche

• Tipo: Convertitore di polarizzazione radiale (S-waveplate)
• Funzione: Converte lineare → radiale/azimutale; circolare → vortice ottico
• Substrato / Materiale: Silice fusa (iscrizione di nanogratrici)
• Metodo di produzione: Iscrizione con laser femtosecondo di nanogratrici auto-organizzate nella silice fusa
• Soglia di danno: Elevata; adatta ai regimi laser nano- e femtosecondo
• Opzioni di ordine superiore: Disponibili per generare pattern di polarizzazione e vortici ottici di ordine superiore (aumentata carica topologica)
• Compatibilità: Può essere combinato con axicon per produrre fasci di Bessel vettoriali
• Applicazioni tipiche: Microlavorazione, microscopia STED e a due fotoni, pinzette ottiche, microforatura