La serie NanoFLux MM è costituita da laser Nd:YAG multimodali Q-switched ad alta energia progettati per fornire impulsi di nanosecondi a 1064 nm. Questi laser offrono un'elevata energia degli impulsi, un'eccellente stabilità dell'energia da impulso a impulso e una qualità superiore del fascio, rendendoli ideali per applicazioni quali il pompaggio di OPO o Ti:Sapphire, la lavorazione dei materiali e la diagnostica del plasma.
Caratteristiche- Laser a nanosecondi ad alta energia
- Energie d'impulso fino a 10 J
- Durata dell'impulso di 5 ns (disponibili opzioni fino a 20 ns)
- Ripetizione dell'impulso a 10 o 20 Hz
- Migliore dello 0. 5% RMS dell'energia d'impulso
- Stabilità dell'energia d'impulso
.5% di stabilità dell'energia dell'impulso RMS- Versioni disponibili con M² fino a 90
- Camere di pompaggio ad alta efficienza e sagomatura avanzata del fascio per la massima estrazione di energia dell'impulso
- Immagine di ritardo tra gli stadi di amplificazione per un profilo uniforme del fascio all'uscita del laser
- Compensazione della birifrangenza indotta termicamente
- Stabilizzazione opzionale della temperatura della seconda, generatori di seconda, terza, quarta e quinta armonica stabilizzati in temperatura
- Sincronizzazione interna/esterna a basso jitter
- Testa laser robusta e stabile
- Controllo tramite tastiera, interfacce USB e LAN con il software di controllo Windows in dotazione (RS232 opzionale)
Applicazioni- Pompaggio laser a coloranti, Ti:Zaffiro, OPO
- Trattamento dei materiali
- Generazione di plasma e diagnostica
- Spettroscopia lineare
- Rilevamento a distanza
Descrizione- Gli oscillatori Q-switched sono progettati come sorgenti di semina affidabili e stabili di nanosecondi, in grado di produrre impulsi di centinaia di mJ da un corpo compatto. Il facile accesso ai compartimenti critici consente una manutenzione semplice.
- Le versioni ad alto M² utilizzano un design prolungato dell'oscillatore, che consente un numero maggiore di modalità di oscillazione e risulta in un profilo del fascio molto omogeneo e piatto, utile per applicazioni specifiche.
- Gli amplificatori lineari della serie NanoFLux forniscono una soluzione economica per i sistemi a nanosecondi ad alta energia. La sagomatura avanzata del fascio assicura un profilo spaziale omogeneo e privo di punti caldi in uscita. La bassa depolarizzazione della luce consente di generare in modo efficiente fino alla quarta armonica con i generatori di armoniche incorporati opzionali.
- Generatori di armoniche a cristalli non lineari con regolazione angolare, montati in riscaldatori stabilizzati in temperatura, sono utilizzati per la generazione della seconda, terza e quarta armonica. La separazione delle armoniche assicura un'elevata purezza spettrale e dirige la radiazione verso le porte di uscita. I generatori di armoniche possono essere integrati o posizionati all'esterno della testa laser. La commutazione della lunghezza d'onda in uscita è manuale, con commutazione motorizzata disponibile su richiesta.
- Il trigger è possibile da generatori di impulsi interni o esterni, con un jitter RMS inferiore a 0,5 ns rispetto all'impulso di trigger del Q-switch.
- Il controllo del sistema è disponibile tramite control pad, USB e interfacce LAN (RS232 opzionale) e può essere gestito da un PC con il software Windows in dotazione.
Opzioni- - G: Fornisce un profilo del fascio di tipo gaussiano (energie d'impulso tipicamente inferiori dell'80% rispetto alla versione standard)
- - M20...90: Fornisce un profilo del fascio piatto e regolare, senza punti caldi o anelli di diffrazione (M² > 20 o M² > 90)
- - RLI: Relay Imaging opzionale per un profilo del fascio regolare
- - AW: Opzione di raffreddamento acqua-aria (sostituisce o integra l'unità di raffreddamento acqua-acqua; la dissipazione di calore equivale al consumo totale di energia)
- - N10...N20: Durata dell'impulso di 10-20 ns (intervallo 2-25 ns)
Specifiche- Energia in uscita a 1064 nm: 3000 mJ (N3k10), 5000 mJ (N5k10), 7000 mJ (N7k10), 10000 mJ (N10k10)
- Energia in uscita a 532 nm: 1500 mJ, 2500 mJ, 3500 mJ, 5000 mJ
- Energia in uscita a 355 nm: 1000 mJ, 1300 mJ, 1700 mJ, 2000 mJ
- Energia in uscita a 266 nm: 270 mJ, 400 mJ, 500 mJ, 700 mJ
- Ripetizione dell'impulso: 10 Hz
- Durata dell'impulso: 5 ± 1 ns (standard), altre durate disponibili
- Stabilità dell'energia dell'impulso a 1064 nm: ≤ 0,5%
- Stabilità dell'energia dell'impulso a 532 nm: ≤ 1%
- Stabilità dell'energia dell'impulso a 355 nm: ≤ 2%
- Stabilità dell'energia dell'impulso a 266 nm: ≤ 3%
- Deriva di potenza a lungo termine: ±2%
- Profilo spaziale del fascio: Super-Gaussiano
- M²: ~5 (standard), versioni con M² 20-90 disponibili
- Diametro del fascio: ~18 mm (N3k10, N5k10), ~25 mm (N7k10, N10k10)
- Stabilità del puntamento del fascio: ≤ 50 µrad
- Divergenza del fascio: ≤ 0.5 mrad
- Jitter dell'impulso ottico: ≤ 0,5 ns
- Larghezza di linea: ≤ 1 cm-¹
- Polarizzazione: lineare
- Dimensioni testa laser (L×L×H mm): 460×1250×260 (N3k10), 500×1300×300 (N5k10), 600×1800×300 (N7k10), 700×2000×300 (N10k10)
- Dimensioni alimentatore (L×L×H mm): 550×600×1250 (N3k10, N5k10, N7k10), 550×600×1640 (N10k10)
- Lunghezza imbracatura: 5 m
- Requisiti di alimentazione: 208, 380 o 400 V CA, trifase, 50/60 Hz
- Consumo di energia: ≤ 5 kVA (N3k10), ≤ 6 kVA (N5k10), ≤ 7 kVA (N7k10), ≤ 8 kVA (N10k10)
- Alimentazione idrica: ≤ 5 l/min, 2 Bar, max 15°C (N3k10, N5k10), ≤ 12 l/min, 2 Bar, max 15°C (N7k10, N10k10)
- Temperatura ambiente operativa: 22 ± 2°C
- Temperatura ambiente di stoccaggio: 15-35°C
- Umidità relativa (non condensante): ≤ 80%
- Pulizia ambiente: Classe ISO 7
Nota- Il laser deve essere sempre collegato alla rete elettrica. Se viene scollegato per più di 1 ora, è necessario un riscaldamento di alcune ore prima dell'accensione.