• Prodotti
  • Cataloghi
  • News & Trends
  • Fiere

ricottura acciaio / per grandi serie
RLA-3100-V

Aggiungi ai miei preferiti MyDirectIndustry
Aggiungi al comparatore Rimuovi dal comparatore
ricottura acciaio / per grandi serie ricottura acciaio / per grandi serie - RLA-3100-V
{{requestButtons}}

Caratteristiche

  • Materiale lavorato:

    acciaio

  • Modo di produzione:

    per grandi serie

Descrizione

Permette all'elaborazione di ricottura del contatto e del substrato di GaN. Sostiene i wafer a 6 pollici e permette all'attivazione ed all'ossidazione in atmosfere della carico-serratura environments/N2 di vuoto (LP).
Caratteristiche

Temperatura di funzionamento massima: 1,200°C
Sostiene una vasta gamma di dimensioni del wafer fino a 6 pollici.
Un meccanismo automatico della sostituzione del wafer fornisce il trasferimento della cassetta--cassetta.
Il supporto di vuoto migliora le caratteristiche di tempera.
Il supporto della carico-serratura del N2 permette al tempo complessivo rapido.
Substrati di GaN di processo della latta.

Traduzione automatica  (Visualizza il testo originale in inglese)