Forno di ricottura CLH Series
di invecchiamentotermicodi cottura

forno di ricottura
forno di ricottura
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Caratteristiche

Funzione
di invecchiamento, di ricottura, termico
Configurazione
a camera
Altre caratteristiche
per alte temperature, orizzontale
Temperatura massima

450 °C, 500 °C, 530 °C
(842 °F, 932 °F, 986 °F)

Larghezza

1.285 mm
(50,59 in)

Altezza

2.020 mm, 2.080 mm
(79,53 in, 81,89 in)

Profondità

1.605 mm, 1.775 mm
(63,19 in, 69,88 in)

Descrizione

La cottura ad alta temperatura in un ambiente pulito è resa possibile dal filtro ad alte prestazioni resistente al calore e dall'esclusiva unità di raffreddamento. Un sistema di circolazione dell'aria calda è utilizzato per effettuare con grande precisione la cottura/invecchiamento di wafer e substrati di vetro, l'indurimento e la ricottura di poliimmide. Caratteristiche Un filtro ad alte prestazioni resistente al calore e la nostra unità di raffreddamento unica nel suo genere sono installati per consentire la cottura ad alta temperatura. L'interno della camera può mantenere la classe di pulizia 100 quando la temperatura è stabile. Esistono 2 tipi di soffianti ad aria calda: soffiante frontale a circolazione orizzontale (tipo V) e soffiante laterale (tipo III). Entrambi raggiungono un'elevata efficienza termica e una buona uniformità di temperatura. Questo tipo di forno è ottimale per la cottura di wafer a semiconduttore e substrati di vetro, l'invecchiamento e altri trattamenti termici che richiedono un'elevata precisione. I gas inerti possono essere introdotti nelle camere per utilizzare i forni come forni a gas inerte.

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.