Forno per trattamento termico VF-5300
di ricotturadi ossidazionead armadio

forno per trattamento termico
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Caratteristiche

Funzione
per trattamento termico, di ricottura, di ossidazione
Configurazione
ad armadio
Fonte di calore
elettrico
Tipo di atmosfera
in atmosfera controllata
Altre caratteristiche
continuo, per l'industria elettronica

Descrizione

Questa fornace verticale con un caricatore incorporato elabora i wafer a 8 pollici alle temperature ultraelevate nei grandi lotti. Questa fornace è un sistema di trattamento termico a semiconduttore che può realizzare l'ossidazione, la diffusione, LPCVD, la ricottura di attivazione ed i vari trattamenti termici. Caratteristiche Grande lotto, un'elaborazione batch massima di 150 wafer 20 azione massime della cassetta Controllo della temperatura eccellente dal minimo a gamma ad alta temperatura media facendo uso di un radiatore di LGO Trasferimento ad alta velocità del wafer per mezzo di singolo/cinque wafer che tratta robot Fornito ad un di un sistema di controllo adatto a operatore di rendimento elevato

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.