Forno per trattamento termico VF-5300

di ricotturadi ossidazionead armadio

Questa fornace verticale con un caricatore incorporato elabora i wafer a 8 pollici alle temperature ultraelevate nei grandi lotti. Questa fornace è un sistema di trattamento termico a semiconduttore che può realizzare l'ossidazione, la diffusione, LPCVD, la ricottura di attivazione ed i vari trattamenti termici. Caratteristiche Grande lotto, un'elaborazione batch massima di 150 wafer 20 azione massime della cassetta Controllo della temperatura eccellente dal minimo a gamma ad alta temperatura media facendo uso di un radiatore di LGO Trasferimento ad alta velocità del wafer per mezzo di singolo/cinque wafer che tratta robot Fornito ad un di un sistema di controllo adatto a operatore di rendimento elevato