Forno ad armadio VF-5300

per trattamento termicodi ricotturadi ossidazione

Questo forno verticale con stocker incorporato lavora wafer da 8 pollici a temperature elevatissime in grandi lotti. Questo forno è un sistema di trattamento termico per semiconduttori in grado di eseguire ossidazione, diffusione, LPCVD, ricottura di attivazione e vari altri trattamenti termici. Caratteristiche Lotti di grandi dimensioni, elaborazione di 150 wafer al massimo Max 20 stock di cassette Eccellente controllo della temperatura da bassa a medio-alta grazie a un riscaldatore LGO Trasferimento dei wafer ad alta velocità grazie all'uso di un robot per la movimentazione di singoli/cinque wafer Dotato di un sistema di controllo ad alte prestazioni facile da usare per l'operatore Questo modello è un forno a diffusione verticale continuo per grandi lotti e produzione di massa, dotato di uno stoccatore per un massimo di 150 wafer (8 pollici) o 20 cassette. Grazie al riscaldatore LGO, questo forno presenta caratteristiche di temperatura superiori in un intervallo che va dalle basse alle altissime temperature. Questo forno può essere utilizzato per un'ampia gamma di lavorazioni, dalla ricottura a bassa temperatura, al nitruro (Si3N4), al polisilicio (poly Si) e altri materiali LPCVD, fino all'ossidazione e alla diffusione. Un riscaldatore per disiliciuro di molibdeno (MoSi2) può essere utilizzato anche per supportare l'ossinitrurazione dei gate dei dispositivi di potenza SiC e altre lavorazioni ad altissima temperatura.