Sistema di posizionamento moduli combinati Z3TM+

4 assiXYverticale

Il modulo Z3TM amplia la gamma di piattaforme di movimento, offrendo quattro gradi di libertà indipendenti per applicazioni avanzate di semiconduttori. Progettato per applicazioni avanzate di semiconduttori, questo modulo offre quattro gradi di libertà indipendenti - 3 assi rotativi (RX, RY, RZ) e uno verticale (Z) - ottenendo prestazioni eccezionali in termini di precisione e dinamica a livello di wafer in un design compatto. Sostituendo le costose soluzioni piezoelettriche, si eliminano i problemi di isteresi e si supportano risoluzione, accuratezza e ripetibilità a livello nanometrico con una maggiore dinamica. Il supporto incorporato per l'allineamento dei campioni consente un controllo preciso della planarità a livello di wafer, semplifica il lavoro di progettazione, riduce la complessità delle apparecchiature e aumenta l'affidabilità per un time to market più rapido e un miglior rapporto prezzo/prestazioni. Caratteristiche Corsa totale: Z fine ±2 mm, inclinazione della punta ±0,08° e theta infinito Tempo di spostamento e assestamento: Z fine: 100 µm @ ±30 nm in 60 ms / Theta: 90° @ ±40 µdeg in 360 ms Ecco le caratteristiche principali: Rotazione Theta infinita Offre una rotazione continua per un posizionamento versatile. Correzione della punta e dell'inclinazione Correzione su ±0,08° di corsa per migliorare il livellamento e il posizionamento. Passaggio del vuoto Consente il passaggio del vuoto fino al livello del mandrino. Deviazione radiale Garantisce un preciso runout radiale inferiore a ±3,5 µm.