Sistema di metrologia per wafer Atlas® III+

La serie Atlas à couches minces et OCD è lo strumento di metrologia per la fabbricazione di dispositivi FinFET, gate-all-around (GAA) FET, 3D NAND e DRAM avanzati. Estendendo le prestazioni metrologiche a livelli di precisione e accuratezza sub-angstrom, il sistema Atlas III+ consente un controllo avanzato dei processi in un'ampia gamma di applicazioni nella produzione di grandi volumi. La famiglia di prodotti Atlas incorpora una soluzione proprietaria di riflettometria spettroscopica ed ellissometria spettroscopica che, combinata con il software di analisi OCD Spectraprobe™ e AI-Diffract™ di Onto Innovation, leader del settore, consente il controllo di processo di ogni operazione critica dell'unità produttiva. Il sistema Atlas III+ e la soluzione AI-Diffract forniscono una visione dei profili di strutture complesse attraverso le fasi di incisione, pulizia, deposizione e CMP.