Sistema di metrologia per wafer IVS series

per semiconduttori

La serie IVS offre metrologia ottica overlay e CD per i mercati dei semiconduttori, dei semicomposti, dei dispositivi di potenza, RF, MEMS e LED. I sistemi offrono prestazioni di misura superiori con misure di overlay e CD nella stessa ricetta Panoramica del prodotto Il sistema IVS 220 è l'ultima generazione della serie IVS ed è stato progettato per garantire la massima precisione, il TIS (tool induced shift) e la produttività su wafer da 200 mm. La pietra miliare dell'affidabilità e della stabilità del sistema è il tempo medio tra i guasti (MTBF) di 2.100 ore. L'IVS 280 offre la stessa capacità in un pacchetto progettato per la movimentazione su binari aerei con la piena capacità di E84 GEM300. La flessibilità è fondamentale nei processi di semiconduttori composti, dove la stessa linea può ospitare wafer di dimensioni, spessori e processi diversi. Il sistema IVS è ideale per queste condizioni. La gestione versatile dei wafer consente di gestire molte variazioni nella composizione dei wafer, tra cui silicio, carburo di silicio, quarzo, vetro, GaAs, GaN, LiNO3, InP. La serie IVS comprende anche il sistema IVS 200, ideale per le fabbriche più piccole, che offre la possibilità di aggiornare le versioni precedenti della piattaforma IVS alle specifiche IVS 200. La serie IVS contribuisce a garantire una disponibilità ottimale del sistema e anni di funzionamento senza problemi. Il design robusto del sistema di gestione e navigazione dei wafer non richiede l'assistenza dell'operatore durante l'esecuzione delle ricette. Le ricette e i dati rimangono stabili nel tempo. Gli algoritmi specifici per le applicazioni MEMS consentono di misurare un'ampia gamma di strutture MEMS. Le capacità dimostrate della serie IVS di funzionare con elevata precisione e solida affidabilità contraddistinguono questo sistema.