Sistema di metrologia per wafer NanoSpec® II

Disponibile in entrambe le configurazioni da tavolo e standalone, il sistema di analisi della pellicola Nanopsec II chiude il cerchio tra l'attività di ingegneria e di ricerca e l'uso di produzione finale delle ricette e degli algoritmi di analisi Panoramica del prodotto Estendendo la gamma e le prestazioni della collaudata serie NanoSpec, il NanoSpec II introduce un nuovo design con allineamento automatico del campione, autofocus veloce e ripetibilità di misura migliore di 1Å*. Il sistema può essere incorporato con il software di analisi della riflettività spettroscopica di Onto Innovation, l'elaborazione delle immagini per l'allineamento automatico del modello e varie opzioni di configurazione ottica, rendendo il NanoSpec II automatizzato il sistema a film sottile più potente della sua classe. Il NanoSpec II è completamente compatibile con le schede materiali delle precedenti generazioni di prodotti Nanospec. Inoltre, molti modelli di dispersione creati dagli ellissometri Woollam® possono essere importati e utilizzati senza conversione. Disponibile sia in configurazione da tavolo che standalone, il Nanopsec II chiude il cerchio tra l'attività di ingegneria e ricerca e l'uso finale in produzione delle ricette e degli algoritmi di analisi. La facile portabilità delle ricette permette lo sviluppo di ricette al di fuori della linea di produzione senza disturbare il flusso di produzione standard. Varie opzioni per l'analisi dei dati offline permettono agli ingegneri di rielaborare le escursioni all'interno del processo in qualsiasi momento, anche se il campione originale non è più disponibile. Le ottiche sono state progettate per fornire una metrologia affidabile e robusta, mantenendo al minimo gli sforzi di manutenzione.