Sistema di metrologia per semiconduttori Atlas V

La serie Atlas a film sottile e OCD è lo strumento metrologico per la produzione di dispositivi FinFET, gate-all-around (GAA) FET, 3D NAND e DRAM avanzati all'avanguardia. Il nuovo sistema di metrologia Atlas V è stato progettato per misurare diversi passaggi chiave che includono caratteristiche sepolte, non visibili con CD-SEM e altre tecniche. Grazie ai notevoli miglioramenti apportati ai sistemi ottici, ai sottosistemi meccanici e agli algoritmi software, il sistema Atlas V è in grado di misurare con precisione le variazioni più sottili dei parametri del dispositivo e di rivelare gli angoli deboli del processo, consentendo agli ingegneri di migliorare la robustezza del processo in fabbrica. La sensibilità della metrologia Atlas V consente di misurare queste dimensioni critiche con elevata precisione e sensibilità, estendendo la capacità delle soluzioni ottiche per generazioni di dispositivi ed eliminando la necessità di altre tecniche di controllo del processo più lente. La tecnologia Atlas V consente le prestazioni necessarie per lo sviluppo di GAA/3D NAND/DRAM ed è oltre 100 volte più veloce delle soluzioni a raggi X per queste strutture. Alcuni clienti di Onto Innovation hanno convalidato questa nuova tecnologia OCD e hanno potuto constatare la velocità e la risoluzione che un tempo si pensava fossero oltre i limiti della tecnologia ottica.