Sistema di metrologia per semiconduttori Iris™ series

La serie di strumenti Iris, che comprende i modelli Iris C1, T1 e R1, consente il controllo dei processi in un'ampia gamma di applicazioni nella produzione di grandi volumi, con prestazioni eccellenti e costi di gestione. Panoramica dei prodotti La serie Iris è mirata a fornire ai nostri clienti il miglior costo di proprietà con una configurazione ottica specifica per le applicazioni HVM nella produzione di semiconduttori. Il sistema Iris C1 combina una soluzione proprietaria di ellissometria spettroscopica della famiglia Atlas® con il software di analisi AI-Diffract™ OCD di Onto Innovation, leader del settore, consentendo un controllo ad alta precisione di ogni fase critica del processo dei semiconduttori. Il sistema incorpora un robot a doppio braccio, uno stadio ad alta precisione e un sistema di messa a fuoco ad alta velocità. Il sistema è inoltre dotato di un riconoscimento avanzato dei modelli, che migliora la riproducibilità dello spessore e la produttività. L'interfaccia software N2000™ e l'automazione avanzata sono conformi agli standard adottati dal SEMI e da altre organizzazioni. Il sistema Iris e la soluzione AI-Diffract consentono di comprendere i profili di strutture complesse nei settori etch, clean, deposizione, CMP e film sottili. Iris T1 è un sistema ellissometrico spettroscopico che fornisce misure accurate e ripetibili in linea dello spessore e della costante ottica di film dielettrici singoli e multistrato per applicazioni a livello di fabbrica. Costruito sulla stessa piattaforma Atlas, collaudata sul campo, il sistema Iris T1 sfrutta i più recenti progressi nell'ottica e negli algoritmi, rendendolo il migliore della categoria per prestazioni e costi di gestione. L'interfaccia software N2000™, conforme alle norme SEMI/CE, consente di condividere le ricette tra gli strumenti della serie Iris.