Sistema di metrologia per wafer IMPULSE V

per semiconduttori

Piattaforma metrologica integrata che si avvale di soluzioni ottiche e di apprendimento automatico leader del settore e che combina un'elevata sensibilità con un'alta produttività per applicazioni CMP, di deposizione, incisione e litografia. Panoramica del prodotto Sistema IMPULSE V Con tolleranze di uniformità più strette da wafer a wafer e all'interno del wafer, i sistemi di metrologia integrata sono utilizzati in diverse fasi di lavorazione dei semiconduttori. Basato sulla tecnologia ottica ad alta risoluzione dimostrata, il sistema IMPULSE V offre una maggiore sensibilità alle misure dei residui di film sottile durante il processo CMP. La piattaforma IMPULSE vanta l'hardware più affidabile del settore con i migliori parametri di affidabilità e produttività. Il sistema IMPULSE V di nuova generazione estende questa affidabilità a un throughput significativamente più elevato, rimanendo in sincronia con la necessità di un campionamento più elevato, di misure in-die / on-device e sul bordo del wafer. L'ottica avanzata e la camera di misura specificamente progettata offrono un miglioramento significativo del rapporto segnale/rumore (SNR), ottenendo un miglioramento della precisione >2 volte rispetto alla precedente generazione di metrologia integrata. L'apprendimento automatico integrato utilizza l'SNR aggiuntivo per completare questo potente pacchetto, consentendo un time-to-solution più rapido e colmando il divario su strati che in precedenza non erano misurabili con gli strumenti esistenti. Il sistema IMPULSE V e il sistema Atlas V costituiscono una soluzione completa per la misurazione delle dimensioni critiche dei film sottili e dell'ottica per le fabbriche di semiconduttori, che consente di aumentare la resa grazie al feed forward delle informazioni con uno scambio continuo di ricette e dati.