Bersaglii di polverizzazione

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bersaglio di polverizzazione catodica in cromo
bersaglio di polverizzazione catodica in cromo

... Panoramica
Il cromo (Cr) e il nitruro di cromo (CrN) sono impiegati come strati duri per proteggere componenti motore e industriali (es. segmenti del pistone) dall'usura e per aumentarne la durata. Il cromo è inoltre utilizzato come strato di ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione cromato
bersaglio di polverizzazione cromato

... Panoramica
Plansee produce target di sputtering e catodi ad arco in materiali metallici e ceramici (Mo, W, Cr, Ti, Al e leghe). I prodotti sono destinati a microelettronica, tecnologia dei display, fotovoltaico, rivestimenti per utensili e applicazioni ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione niobio
bersaglio di polverizzazione niobio

... Panoramica
Il molibdeno‑niobio (MoNb) è impiegato nei pannelli touch come contatto resistente alla corrosione per sensori ITO. I target MoNb di Plansee sono prodotti in un processo integrato dalla polvere metallica ad alta purezza al target ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione tantalio
bersaglio di polverizzazione tantalio

... Panoramica
I target di sputtering molibdeno‑tantalio (MoTa) combinano l'adesione del molibdeno al vetro e la sua elevata conduttività elettrica con la resistenza chimica fornita dal tantalio. Sono destinati a strati elettrodici e ad altre funzionalità ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione tungsteno
bersaglio di polverizzazione tungsteno

... Panoramica
Gli strati di tungsteno sono componenti dei transistor a film sottile negli schermi TFT-LCD e sono impiegati in microelettronica (ad es. strati in filtri di frequenza come SAW/BAW). Altre applicazioni includono barriere di diffusione ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione catodico in tungsteno
bersaglio di polverizzazione catodico in tungsteno

... Panoramica del prodotto
Le leghe Mo‑W offrono una stabilità chimica superiore rispetto al molibdeno puro durante l'incisione umida con soluzioni per ITO, alluminio o rame. Il contenuto di tungsteno è definito in base all'applicazione e può arrivare ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione catodico in tungsteno
bersaglio di polverizzazione catodico in tungsteno
WTi

... particellare e alte velocità di deposizione.

Formati e fornitura
Plansee produce bersagli WTi tramite processi di metallurgia delle polveri. I bersagli sono disponibili in formati piani e rotativi e in ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione catodico in tungsteno
bersaglio di polverizzazione catodico in tungsteno

... Panoramica
I target di sputtering in tungsteno‑nichel (W–Ni) sono progettati per la produzione di strati elettrocromici per vetro intelligente. Vengono utilizzati in sputtering reattivo per formare film di ossido di tungsteno e ossidi di leghe ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione catodico in molibdeno
bersaglio di polverizzazione catodico in molibdeno

... Panoramica
Le celle solari CIGS (rame‑indio‑gallio‑selenio) raggiungono elevati rendimenti in laboratorio. Il sodio nell’assorbitore migliora le prestazioni anche a basse concentrazioni. I target di sputtering MoNa (molibdeno‑sodio) forniscono ...

Altri prodotti
Plansee SE
bersaglio di polverizzazione
bersaglio di polverizzazione
SP-AU series

... Codice - Purezza - Diametro - Spessore - Peso SP-AU101.6X2 - 99,99% - 101,6 - 2 - 312,78 - SP-AU203,2X2 - 99,99% - 203,2 - 2 - 1.251,00 SP-AU25,4X1 - 99,99% - 25,4 - 1 - 9,77 - SP-AU25,4X1 - 99,99% - 25,4 - 1 - 9,77 - SP-AU50,8X0,1 - 99,99% - 50,8 - 0,1 ...

Altri prodotti
88LABware
bersaglio di polverizzazione
bersaglio di polverizzazione
SP-PD series

... Codice - Purezza - Diametro - Spessore - Peso SP-PD101,6X1 -99,95% - 101,6 - 97,40 - 12,02 - SP-PD57X0.1 - 99,95% - 57 - 3,07 - 12,02 - SP-PD60X0.1 - 99,95% - 60 - 3,40 - 12,02 - SP-PD73X0.1 - 99,95% - 73 - 5,03 - 12,02 - SP-PD75X1 - 99,95% - 75 - 53,08 ...

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bersaglio di polverizzazione
bersaglio di polverizzazione
SP-AG series

... Codice - Purezza - Diametro - Spessore - Peso SP-AG101,6X3-9999 - 99,99% - 101,6 - 3 - 255,25 - SP-AG54X0.1 - 99,9% - 54 - 0,1 - 2,40 - SP-AG54X0.1-9999 - 99,99% - 54 - 0,1 - 2,40 - SP-AG54X0.2-9999 - 99,99% - 54 - 0,2 - 4,81 - SP-AG57X0.1 - 99,9% - 57 ...

Altri prodotti
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bersaglio di polverizzazione
bersaglio di polverizzazione
SP-PT series

... Codice - Purezza - Diametro - Spessore - Peso SP-PT101.6X0,2 - 99,95% 101.6 - 35,00 - 21,45 - SP-PT20X1 - 99,99% - 20 - 7,00 - 21,45 - SP-PT33X1 - 99,95% - 33 - 18,34 - 21,45 - SP-PT50,8X0,1 - 99,99% - 50,8 - 4,35 - 21,45 - SP-PT54X0,1 - 99,95% - 54 ...

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bersaglio di polverizzazione
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SP-AU6PD series

... Codice - Diametro - Spessore - Peso - SP-AU6PD450X0.1 - 50 - 0,1 - 3,50 - SP-AU6PD457X0.1 - 57 - 0,1 - 4,18 - SP-AU6PD460X0.1 - 60 - 0,1 - 4,64 - SP-AU6PD462X0.1 - 62 - 0,1 - 5,00 - SP-AU6PD473X0.1 - 73 - 0,1 - 6,86 ...

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bersaglio di polverizzazione
bersaglio di polverizzazione
SP-AU8PD series

... Codice - Diametro - Spessore - Peso - SP-AU8PD254X0,1 - 54 - 0,1 - 4,00 - SP-AU8PD257X0,1 - 57 - 0,1 - 5,20 - SP-AU8PD258X0,1 - 58 - 0,1 - 5,40 - SP-AU8PD260X0.1 - 60 - 0,1 - 4,80 - SP-AU8PD263X0.1 - 63 - 0,1 - 5,54 ...

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bersaglio di polverizzazione catodica per deposito in strato sottile
bersaglio di polverizzazione catodica per deposito in strato sottile

... Utilizziamo una serie di tecniche di lavorazione specializzate come lo stampaggio a caldo, lo stampaggio isostatico a caldo (HIP), lo stampaggio isostatico a freddo (CIP), la fusione sottovuoto a induzione e la colata sottovuoto per produrre materiali ...

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Angstrom Sciences, Inc.
bersaglio di polverizzazione catodica per deposito in strato sottile
bersaglio di polverizzazione catodica per deposito in strato sottile

... I materiali PVD (Physical Vapor Deposition) comprendono una serie di materiali che possono essere utilizzati per creare rivestimenti a film sottile. Angstrom Sciences offre una selezione completa di materiali per la deposizione sotto vuoto di elevata ...

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Angstrom Sciences, Inc.
bersaglio di polverizzazione catodica in titanio
bersaglio di polverizzazione catodica in titanio

... Le piastre di supporto utilizzate nel processo di sputtering sono essenziali per creare una deposizione di film sottile di qualità per il vostro prodotto. Offriamo piastre di supporto sia in configurazioni standard che in dimensioni personalizzate per ...

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Angstrom Sciences, Inc.
bersaglio di polverizzazione tungsteno
bersaglio di polverizzazione tungsteno

... Angstrom Sciences offre una linea completa di magnetron UHV, tra cui il nostro "ONYX- UHV", caratterizzato da guarnizioni interamente in metallo, isolatori in ceramica e array di magneti smontabili. La struttura completamente saldata consente il bake-out ...

Altri prodotti
Angstrom Sciences, Inc.
bersaglio di polverizzazione
bersaglio di polverizzazione

... Per i materiali a film sottile indispensabili come materiale di cablaggio o di rivestimento antiriflesso per i pannelli LCD, personalizziamo i materiali target in base alle vostre esigenze. Offriamo anche un'ampia gamma di altri prodotti come NbOx, Cr ...

bersaglio di polverizzazione niobio
bersaglio di polverizzazione niobio

... CXMET è una fabbrica diretta, situata nella valle di Baoji, e avevamo installato una serie di macchine per produrre e testare il supporto.Obiettivo sputtering afnioè uno dei metalli rari nella nostra fabbrica, tutti possono essere personalizzati da CXMET. FAQ 1. ...

Altri prodotti
Shaanxi CXMET Technology Co., Ltd.
bersaglio di polverizzazione zirconio
bersaglio di polverizzazione zirconio

CXMET è il leader degli obiettivi di sputtering in Cina, è sempre stato coinvolto nello sviluppo e nella produzione di materiali di rivestimento per strumenti, vetro e rivestimenti decorativi in ​​scaglie di PET, comprese le serie Gold, Silver e color ...

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