Bersaglio di polverizzazione catodica in titanio

Le piastre di supporto utilizzate nel processo di sputtering sono essenziali per creare una deposizione di film sottile di qualità per il vostro prodotto. Offriamo piastre di supporto sia in configurazioni standard che in dimensioni personalizzate per soddisfare i vostri requisiti specifici. Offriamo anche servizi completi di incollaggio per fornire una soluzione completa. Angstrom Sciences fornisce piastre di supporto personalizzate per adattarsi ai catodi di qualsiasi produttore. Le nostre capacità di lavorazione interne ci consentono di produrre una gamma completa di piastre di supporto secondo le specifiche del primo equipaggiamento o le dimensioni personalizzate dei catodi, con il massimo livello di controllo della qualità. Per Angstrom Sciences nessun ordine è troppo piccolo o troppo grande. Non ci sono lotti minimi per le composizioni personalizzate e la nostra straordinaria attenzione al servizio clienti è l'invidia del settore. Forniamo abitualmente piastre di supporto (rame, molibdeno, rame-cromo) per obiettivi di sputtering planari, circolari e cilindrici, paste conduttive e pad per il raffreddamento degli obiettivi di sputtering e offriamo anche servizi di bonding come parte della nostra gamma completa di servizi per la comunità PVD.