Magnetron pulsato HiPIMS

cilindricocircolare

Lo sputtering magnetronico a impulsi ad alta potenza (HiPIMS) rappresenta un progresso relativamente recente nella tecnologia dello sputtering a impulsi, che utilizza impulsi di altissima energia e breve durata per generare una scarica al plasma in grado di ionizzare un’elevata percentuale degli atomi sottoposti a sputtering. Il flusso ionizzato può quindi essere guidato per ottenere un maggiore controllo delle proprietà del rivestimento. Nella tecnica HiPIMS, al bersaglio di sputtering vengono applicati, sotto forma di impulsi, un'alta tensione di picco e un'elevata densità di corrente, con durate degli impulsi relativamente brevi, frequenze altrettanto basse e lunghi intervalli di tempo tra un ciclo e l'altro. Le durate degli impulsi sono tipicamente comprese tra 50 e 200 microsecondi con frequenze nell’ordine dei 500 hertz, mentre l’intervallo tra i cicli può essere di appena alcuni centesimi di secondo. Ciò consente un ciclo di lavoro basso, nell’ordine del 10%, che riduce al minimo il riscaldamento mantenendo la stabilità del processo. L’utilizzo della tecnologia HiPIMS per modificare la morfologia e la struttura dei film risultanti offre numerosi vantaggi. Proprietà quali densità, durezza, topografia superficiale, indice di rifrazione e adesione possono essere tutte modificate e migliorate attraverso il processo HiPIMS. Angstrom Sciences ha sviluppato una serie di catodi di sputtering in grado di sostenere queste densità di potenza estreme per applicazioni di produzione a ciclo continuo e di lunga durata. Insieme al nostro sistema brevettato di raffreddamento turbolento del bersaglio, i catodi di sputtering magnetronico a impulsi ad alta potenza di Angstrom Sciences incorporano canali di raffreddamento aggiuntivi nel corpo dell’anodo e nelle flange di montaggio per mantenere un raffreddamento ottimale durante il funzionamento del processo.