Magnetron pulsato HiPIMS

cilindricocircolare

L'High Power Impulse Magnetron Sputtering o HiPIMS è un progresso relativamente recente nella tecnologia dello sputtering pulsato che utilizza impulsi di breve durata e ad altissima energia per generare una scarica di plasma che ionizza una grande percentuale di atomi sputati. Il flusso ionizzato può quindi essere guidato per un maggiore controllo delle proprietà del rivestimento. Angstrom Sciences ha sviluppato una serie di catodi di sputtering in grado di sostenere queste densità di potenza estreme, superiori a 1500 Watt/in2, per applicazioni di produzione continue e di lunga durata. Oltre al raffreddamento turbolento del bersaglio brevettato, i catodi di sputtering magnetronico pulsato ad alta potenza di Angstrom Sciences incorporano canali di raffreddamento aggiuntivi nel corpo dell'anodo e nelle flange di montaggio per mantenere un raffreddamento ottimale durante il processo. Altre caratteristiche includono array di magneti passivi e attivi che mantengono l'intensità del campo sulla superficie del bersaglio costante per tutta la durata del bersaglio, un aspetto critico nel processo HIPIMS sia per la riduzione degli archi che per la ionizzazione ottimale del materiale spruzzato. Queste caratteristiche, insieme alla struttura solida dell'anodo, consentono di ottenere prestazioni costanti e ripetibili in applicazioni impegnative come l'HiPIMS o qualsiasi altra applicazione ad alta potenza e di lunga durata. I magnetron HiPIMS sono raffreddati direttamente e sono disponibili in versione circolare, lineare e cilindrica.