Controllore di processo compatto Plasus

I controllori di flusso di processo sono controllori di gas di processo ad alta velocità ad anello chiuso, progettati per il controllo di precisione in tempo reale e in situ dei processi di rivestimento sotto vuoto e di trattamento al plasma basati sullo sputtering reattivo. Sono soluzioni complete, compatte, flessibili, comode da usare ed economiche, che possono essere facilmente integrate in sistemi nuovi o già esistenti. Ugualmente adatti a strumenti di produzione o di ricerca e sviluppo, i controllori di flusso di processo possono apportare miglioramenti dimostrabili alla stabilità, alla ripetibilità e alla resa del processo. È disponibile un'ampia gamma di accessori, compresi i sensori progettati specificamente per le applicazioni di sputtering HIPMS. Il controllo del processo è essenziale nelle applicazioni industriali al plasma per garantire l'affidabilità e l'alta qualità del processo. In questo caso, la spettroscopia di emissione ottica (OES) è una tecnica di prima scelta, poiché non influisce sul plasma ed è possibile monitorare in tempo reale diverse specie di plasma. I nostri sistemi PLASUS EMICON sono dotati di tutte le funzioni necessarie per analizzare, ottimizzare e controllare le applicazioni al plasma. PLASUS è un produttore leader di sistemi di monitoraggio spettroscopico del plasma. Fondata 20 anni fa, la nostra competenza principale è lo sviluppo di sistemi di controllo di processo chiavi in mano per applicazioni industriali e di ricerca e sviluppo. I nostri sistemi sono utilizzati per il monitoraggio del plasma, il controllo dei processi, l'ottimizzazione dei processi, il controllo qualità e l'analisi spettroscopica del plasma. Approfittate della nostra esperienza pluriennale e del nostro know-how nel settore: saremo al vostro servizio e vi consiglieremo in modo completo per la vostra applicazione!