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Bersaglio di polverizzazione catodica per deposito in strato sottile
tungsteno

Bersaglio di polverizzazione catodica per deposito in strato sottile - Angstrom Sciences, Inc. - tungsteno
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Caratteristiche

Specificazioni
tungsteno, catodica per deposito in strato sottile

Descrizione

Utilizziamo una serie di tecniche di lavorazione specializzate come lo stampaggio a caldo, lo stampaggio isostatico a caldo (HIP), lo stampaggio isostatico a freddo (CIP), la fusione sottovuoto a induzione e la colata sottovuoto per produrre materiali omogenei, a grana fine e ad alta densità, conformi ai più severi standard applicativi. Tutti i target di sputtering vengono puliti, ispezionati, testati chimicamente e imballati sotto gas inerte per essere immediatamente utilizzati nel vostro sistema di vuoto. Angstrom Sciences fornisce una gamma completa di materiali per lo sputtering, tra cui: metalli preziosi, metalli puri, leghe, ceramiche, cermet, boruri, ossidi, carburi, nitruri, siliciuri e fluoruri. La purezza varia da quella commerciale (99,5%) a quella ultra elevata (99,9999%).

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