Bersaglio di polverizzazione catodico in tungsteno catodico in molibdeno
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Caratteristiche
- Specificazioni
- catodico in tungsteno, catodico in molibdeno
Descrizione
Panoramica del prodotto
Le leghe Mo‑W offrono una stabilità chimica superiore rispetto al molibdeno puro durante l'incisione umida con soluzioni per ITO, alluminio o rame. Il contenuto di tungsteno è definito in base all'applicazione e può arrivare fino al 50% in peso. La produzione tramite metallurgia delle polveri garantisce una distribuzione omogenea del tungsteno e una microstruttura controllata.
Vantaggi
Applicazioni e capacità di processo
Progettati per applicazioni di deposizione PVD e compatibili con processi che coinvolgono ITO, alluminio e rame. Il laboratorio applicativo PVD esegue prove in condizioni pratiche per sviluppare e analizzare gli strati. I processi di coating disponibili includono PVD, CVD, APS e VPS; prodotti tipici: piastre base per semiconduttori e anodi X rotanti.
Produzione e filiera
La produzione metallurgica delle polveri (miscelazione/legatura delle polveri, pressatura, sinterizzazione, laminazione a caldo se applicabile) genera target planari e rotanti nonché semilavorati sinterizzati compatti. La sinterizzazione è il passaggio centrale per ottenere alta densità. Dopo la lavorazione meccanica i target vengono finalizzati nei bonding shop locali e forniti pronti per l'installazione. La filiera delle materie prime per tungsteno e molibdeno è integrata nella rete di fornitura del gruppo.
Caratteristiche tecniche / specifiche
Le leghe Mo‑W offrono una stabilità chimica superiore rispetto al molibdeno puro durante l'incisione umida con soluzioni per ITO, alluminio o rame. Il contenuto di tungsteno è definito in base all'applicazione e può arrivare fino al 50% in peso. La produzione tramite metallurgia delle polveri garantisce una distribuzione omogenea del tungsteno e una microstruttura controllata.
Vantaggi
- Elevata purezza > 99,97 %
- Densità massima > 99,95 %
- Microstruttura e composizione chimica omogenee
Applicazioni e capacità di processo
Progettati per applicazioni di deposizione PVD e compatibili con processi che coinvolgono ITO, alluminio e rame. Il laboratorio applicativo PVD esegue prove in condizioni pratiche per sviluppare e analizzare gli strati. I processi di coating disponibili includono PVD, CVD, APS e VPS; prodotti tipici: piastre base per semiconduttori e anodi X rotanti.
Produzione e filiera
La produzione metallurgica delle polveri (miscelazione/legatura delle polveri, pressatura, sinterizzazione, laminazione a caldo se applicabile) genera target planari e rotanti nonché semilavorati sinterizzati compatti. La sinterizzazione è il passaggio centrale per ottenere alta densità. Dopo la lavorazione meccanica i target vengono finalizzati nei bonding shop locali e forniti pronti per l'installazione. La filiera delle materie prime per tungsteno e molibdeno è integrata nella rete di fornitura del gruppo.
Caratteristiche tecniche / specifiche
- Stabilità chimica superiore al molibdeno puro in ambienti di incisione umida
- Contenuto di tungsteno: fino al 50 % in peso (definito per applicazione)
- Elevata purezza: > 99,97 %
- Densità massima: > 99,95 %
- La metallurgia delle polveri garantisce una distribuzione omogenea del W
- Disponibili in target planari e in configurazioni rotanti
- Fasi chiave di produzione: miscelazione/legatura delle polveri, pressatura, sinterizzazione, (laminazione a caldo), lavorazione meccanica, bonding/assemblaggio
- Laboratorio applicativo PVD interno per sviluppo dei rivestimenti e analisi degli strati
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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.