Bersaglio di polverizzazione tantalio
catodico in molibdeno

Bersaglio di polverizzazione tantalio - Plansee SE - catodico in molibdeno
Bersaglio di polverizzazione tantalio - Plansee SE - catodico in molibdeno
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Caratteristiche

Specificazioni
tantalio, catodico in molibdeno

Descrizione

Panoramica
I target di sputtering molibdeno‑tantalio (MoTa) combinano l'adesione del molibdeno al vetro e la sua elevata conduttività elettrica con la resistenza chimica fornita dal tantalio. Sono destinati a strati elettrodici e ad altre funzionalità PVD in TFT‑LCD e pannelli touch, quando è richiesta una maggiore resistenza alla corrosione e una buona etchabilità umida.

Produzione
Plansee produce i target MoTa tramite processi di metallurgia delle polveri: selezione di polveri metalliche ad alta purezza, miscelazione controllata, pressatura, sinterizzazione, formatura e lavorazione di precisione. I target vengono finalizzati in officine di bonding e forniti pronti per l'installazione. Il contenuto di tantalio è regolabile in funzione dell'applicazione, fino a circa l'11 % in peso.

Prestazioni e vantaggi
  • Maggiore resistenza chimica e alla corrosione per strati elettrodici e funzionali
  • Eccellente adesione al vetro e alta conduttività elettrica
  • Microstruttura e composizione omogenee per deposizioni PVD costanti
  • Buona etchabilità chimica umida per la strutturazione
  • Produzione ottimizzata per minimizzare la formazione di particelle e l'arcing durante il PVD

Centro di competenza e sviluppo
I materiali di rivestimento e i parametri di processo sono sviluppati e convalidati nel laboratorio applicativo PVD di Plansee in condizioni industriali. La collaborazione con clienti e fornitori di impianti consente una rapida qualificazione e l'adattamento specifico per l'applicazione.

Materie prime e fornitura
Plansee controlla l'intera filiera dal polvere di tantalio certificata e senza conflitti ai target finiti, garantendo tracciabilità e fornitura affidabile. I controlli di qualità riducono le impurità metalliche e non metalliche per limitare la generazione di particelle.

Caratteristiche tecniche / specifiche
  • Purezza: ≥ 99,97 % (base metallica)
  • Densità del target: > 98 % (densità relativa)
  • Contenuto di tantalio: dipendente dall'applicazione, fino a ~11 % in peso
  • Produzione: metallurgia delle polveri (miscelazione, pressatura, sinterizzazione, formatura, lavorazione, bonding)
  • Uso previsto: strati elettrodici in TFT‑LCD, pannelli touch e altri strati funzionali PVD
  • Proprietà chiave: eccellente adesione al vetro, alta conduttività elettrica, maggiore resistenza chimica, tassi di deposizione omogenei, ridotta formazione di particelle

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.