La camera ad anello con inserto in ceramica di allumina è una variante specializzata di componenti resistenti al plasma, che sfrutta le proprietà uniche dell'allumina (Al₂O₃) per funzionare in ambienti di plasma estremi.
Gli ambienti della camera ad anello con inserto in ceramica di allumina presentano un'elevata resistenza al calore, isolamento elettrico e resistenza allo sputtering, fungendo da barriera protettiva e stabilizzatore. Protegge i componenti critici (ad es. elettrodi, sensori) dal bombardamento ionico e dall'erosione chimica, previene le perdite di corrente, assicura una distribuzione uniforme del plasma (ad es. nell'incisione dei semiconduttori) e resiste alla contaminazione dei gas reattivi (ad es. Cl₂, F₂). Nonostante la fragilità e la limitata resistenza agli shock termici, i rinforzi o i rivestimenti compositi (ad esempio, il nitruro di boro) ne migliorano l'uso in applicazioni estreme come i semiconduttori e l'aerospaziale, bilanciando costi e prestazioni.
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