Piastre di posizionamento per manipolazione di wafer

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piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
LA92

Corsa: 1 mm - 40 mm
Velocità: 1 mm/s - 200 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... LA92 Asse lineare UHV ad alta velocità Applicazione: Applicazioni ad alta risoluzione e scansione veloce Vantaggi: Posizionamento veloce in UHV, anche in verticale Caratteristiche: Risoluzione eccezionale, molto sottile, ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
LT300

Corsa: 1 mm - 100 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... LT300 Stadio lineare preciso per carichi elevati Applicazione: Stadio di trasporto, stadio di scansione per carichi elevati Vantaggi: elevata durata nonostante il lubrificante a secco Caratteristiche: vite a piombo con lubrificazione ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
LA97

Corsa: 1 mm - 300 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,015 µm - 5 µm

... LA97 Stadio lineare nanometrico Applicazione: scansione Vantaggi: posizionamento nanometrico, anche in verticale Caratteristiche: posizionamento con estrema risoluzione e massima rigidità può essere ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
LA95

Corsa: 1 mm - 185 mm
Velocità: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... LA95 - Applicazione: fase di trasporto, fase di scansione - Vantaggi: elevata durata nonostante il lubrificante a secco - Caratteristiche: vite a piombo con lubrificazione a secco o vite a sfere con lubrificante liquido - ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
MT53

Corsa: 1 mm - 10 mm
Velocità: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,2 µm - 5 µm

... ad alta risoluzione Applicazione: microstadio multiuso Vantaggi: per la scansione ad alta risoluzione Caratteristiche: posizionamento ad altissima risoluzione - Vuoto: tutti i campi di pressione HV /UHV fino a 10E-11 ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
KT105

Corsa: 1 mm - 50 mm
Velocità: 1 mm/s - 50 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... magnetismo e senza magnetismo - Diverse varianti di motore: Motore Nanomotion o piezoelettrico - Combinabile con sistema di posizionamento XYZ (ad es. MT105) - Combinabile con stadi rotanti (ad es. DT105) per applicazioni ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
KDT300

Corsa: 1 mm - 100 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... KDT300 Stabile stadio xy ad alto carico Applicazione: stadio di trasporto, stadio di scansione per carichi elevati Vantaggi: - elevata durata nonostante il lubrificante a secco Caratteristiche: durata elevata nonostante la lubrificazione ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
HT160

Corsa: 1 mm - 16 mm
Velocità: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Ripetibilità: 1 µm - 5 µm

... HT160 Stadio di sollevamento verticale di precisione per carichi elevati Applicazione: stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: elevata rigidità e carico Caratteristiche: cuneo con vite a ricircolo di sfere - Vuoto: tutte le gamme ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
HDT255

Corsa: 1 mm - 16 mm
Velocità: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Ripetibilità: 0,7 µm - 5 µm

... HDT255 Tavolo di sollevamento ad alta apertura di carico Applicazione: stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: - elevata rigidità e carico, apertura Caratteristiche: piattaforma a cuneo con apertura - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento lineare
piastra di posizionamento lineare
HT240

Corsa: 1 mm - 25 mm
Velocità: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... HT240 Stadio di sollevamento verticale di precisione per carichi elevati Applicazione: Stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: elevata rigidità e carico Caratteristiche: cuneo con mandrino a vite a sfera - Vuoto: tutte le gamme HV ...

Altri prodotti
Steinmeyer Holding GmbH
piastra di posizionamento esapode
piastra di posizionamento esapode
HEX-S6.50.200

Velocità: 100, 15 mm/s
Carico: 750 kg

... risoluzione di posizionamento ultra-fine e una sufficiente capacità di carico utile Ideale per le applicazioni che richiedono un movimento complesso a più gradi di libertà quando lo spazio disponibile è limitato. È adatto ...

piastra di posizionamento a ponte
piastra di posizionamento a ponte

Corsa: 50 mm - 1.000 mm
Velocità: 200.000 mm/s
Ripetibilità: 0,5 µm - 1 µm

... Robot cartesiani a portale con ampie aree di lavoro. Tutti gli assi mobili si trovano sopra l'area di lavoro. - Gantry XYZ 300 x 300 x 50 mm di corsa - Meccanismo a vite a ricircolo di sfere - Azionato da un motore passo-passo o ...

Altri prodotti
IntelLiDrives, Inc.
piastra di posizionamento XY
piastra di posizionamento XY
XYR-65-10X10-AUT-ACR-65AUT

Corsa: 10 mm
Velocità: 200 mm/s

... profilo per la movimentazione dei wafer e molte altre applicazioni automatizzate di posizionamento accurato nell'industria dei semiconduttori. L'azionamento lineare con motore lineare XY drive fornisce ...

Altri prodotti
IntelLiDrives, Inc.
piastra di posizionamento XY
piastra di posizionamento XY
XY-OF-UL-200x200+ACR160UT

Corsa: 200 mm
Velocità: 400, 800 mm/s

Altri prodotti
IntelLiDrives, Inc.
piastra di posizionamento XY
piastra di posizionamento XY
XY-OF-UL-280x280+ACR260UT

Corsa: 280 mm
Velocità: 400, 800 mm/s

Altri prodotti
IntelLiDrives, Inc.
piastra di posizionamento rotativa
piastra di posizionamento rotativa
XY-OF-UL-350x350+ACR335UT

Corsa: 350 mm
Velocità: 800, 400 mm/s

Altri prodotti
IntelLiDrives, Inc.
piastra di posizionamento XY
piastra di posizionamento XY
XY-OF-100x100J-MLVT-25J-RTLA-30-100HJ

Corsa: 200 mm
Velocità: 100 m/s
Ripetibilità: 2 µm

... Combinazione di stadi XY a vite a ricircolo di sfere a telaio aperto con stadi MLVT Lift e tavola rotante RTLA compatta con ingranaggio a vite - Corsa XY da 100 mm a 300 mm - Sollevamento da 12 mm a 25 mm - Rotazione illimitata ...

Altri prodotti
IntelLiDrives, Inc.
piastra di posizionamento vuoto-compatibile
piastra di posizionamento vuoto-compatibile
MT105 series

Corsa: 30, 50, 100 mm
Velocità: 5, 50 mm/s

... elevati - Diverse varianti di motore: Nanomotion, motore piezoelettrico o motore lineare - Combinabile con il sistema di posizionamento XYZ - Combinabile con tavole rotanti (ad es. DT105) per applicazioni rotanti - Adattamento ...

Altri prodotti
Steinmeyer Mechatronik GmbH
piastra di posizionamento vuoto-compatibile
piastra di posizionamento vuoto-compatibile
LT300 series

Corsa: 100, 50 mm
Velocità: 5 mm/s
Ripetibilità: 0,5 µm - 4 µm

... questo sistema di posizionamento raggiunge una stabilità nell'intervallo dei nanometri. Campi di applicazione Tecnologia dei semiconduttori in ultra-alto vuoto e sotto radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di ...

Altri prodotti
Steinmeyer Mechatronik GmbH
piastra di posizionamento vuoto-compatibile
piastra di posizionamento vuoto-compatibile
LA170 series

Corsa: 60, 130 mm
Velocità: 5 mm/s
Ripetibilità: 0,5 µm - 4 µm

... Consente un posizionamento estremamente fine con carichi elevati in ultra-alto vuoto, anche in direzione verticale. Aree di applicazione Configurazione di sistemi multiasse, automazione di processo, scansione 3D, scansione ...

Altri prodotti
Steinmeyer Mechatronik GmbH
piastra di posizionamento per carico elevato
piastra di posizionamento per carico elevato
HT240 series

Corsa: 25 mm
Velocità: 1,7 mm/s

... relativamente elevati. Aree di applicazione Posizionamento di precisione nell'industria e nella ricerca nel vuoto spinto e in presenza di radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di wafer, ispezione ...

Altri prodotti
Steinmeyer Mechatronik GmbH
piastra di posizionamento di alta precisione
piastra di posizionamento di alta precisione
HT160 series

Corsa: 16 mm
Velocità: 1,1 mm/s

... carichi relativamente elevati. Aree di applicazione Posizionamento di precisione nell'industria e nella ricerca nel vuoto spinto e in presenza di radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di wafer, ...

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