Piastre di posizionamento per manipolazione di wafer

Corsa: 1 mm - 40 mm
Velocità: 1 mm/s - 200 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... LA92 Asse lineare UHV ad alta velocità Applicazione: Applicazioni ad alta risoluzione e scansione veloce Vantaggi: Posizionamento veloce in UHV, anche in verticale Caratteristiche: Risoluzione eccezionale, molto sottile, con motore interno - ...

Corsa: 1 mm - 100 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... LT300 Stadio lineare preciso per carichi elevati Applicazione: Stadio di trasporto, stadio di scansione per carichi elevati Vantaggi: elevata durata nonostante il lubrificante a secco Caratteristiche: vite a piombo con lubrificazione a secco o vite ...

Corsa: 1 mm - 300 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,015 µm - 5 µm

... LA97 Stadio lineare nanometrico Applicazione: scansione Vantaggi: posizionamento nanometrico, anche in verticale Caratteristiche: posizionamento con estrema risoluzione e massima rigidità può essere equipaggiato con ...

Corsa: 1 mm - 185 mm
Velocità: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... LA95 - Applicazione: fase di trasporto, fase di scansione - Vantaggi: elevata durata nonostante il lubrificante a secco - Caratteristiche: vite a piombo con lubrificazione a secco o vite a sfere con lubrificante liquido - Vuoto: tutti ...

Corsa: 1 mm - 10 mm
Velocità: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,2 µm - 5 µm

... ad alta risoluzione Applicazione: microstadio multiuso Vantaggi: per la scansione ad alta risoluzione Caratteristiche: posizionamento ad altissima risoluzione - Vuoto: tutti i campi di pressione HV /UHV fino a 10E-11 mbar - Lubrificazione: ...

Corsa: 1 mm - 50 mm
Velocità: 1 mm/s - 50 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... magnetismo e senza magnetismo - Diverse varianti di motore: Motore Nanomotion o piezoelettrico - Combinabile con sistema di posizionamento XYZ (ad es. MT105) - Combinabile con stadi rotanti (ad es. DT105) per applicazioni rotanti - Opzionale ...

Corsa: 1 mm - 100 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... KDT300 Stabile stadio xy ad alto carico Applicazione: stadio di trasporto, stadio di scansione per carichi elevati Vantaggi: - elevata durata nonostante il lubrificante a secco Caratteristiche: durata elevata nonostante la lubrificazione a secco - ...

Corsa: 1 mm - 16 mm
Velocità: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Ripetibilità: 1 µm - 5 µm

... HT160 Stadio di sollevamento verticale di precisione per carichi elevati Applicazione: stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: elevata rigidità e carico Caratteristiche: cuneo con vite a ricircolo di sfere - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV / EUV fino ...

Corsa: 1 mm - 16 mm
Velocità: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Ripetibilità: 0,7 µm - 5 µm

... HDT255 Tavolo di sollevamento ad alta apertura di carico Applicazione: stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: - elevata rigidità e carico, apertura Caratteristiche: piattaforma a cuneo con apertura - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV / EUV fino a 10E-11 ...

Corsa: 1 mm - 25 mm
Velocità: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... HT240 Stadio di sollevamento verticale di precisione per carichi elevati Applicazione: Stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: elevata rigidità e carico Caratteristiche: cuneo con mandrino a vite a sfera - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV / EUV fino ...

Velocità: 100, 15 mm/s
Carico: 750 kg

... risoluzione di posizionamento ultra-fine e una sufficiente capacità di carico utile Ideale per le applicazioni che richiedono un movimento complesso a più gradi di libertà quando lo spazio disponibile è limitato. È adatto per il livellamento ...

Corsa: 30, 50, 100 mm
Velocità: 5, 50 mm/s

... elevati - Diverse varianti di motore: Nanomotion, motore piezoelettrico o motore lineare - Combinabile con il sistema di posizionamento XYZ - Combinabile con tavole rotanti (ad es. DT105) per applicazioni rotanti - Adattamento individuale ...

Corsa: 100, 50 mm
Velocità: 5 mm/s
Ripetibilità: 0,5 µm - 4 µm

... questo sistema di posizionamento raggiunge una stabilità nell'intervallo dei nanometri. Campi di applicazione Tecnologia dei semiconduttori in ultra-alto vuoto e sotto radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di wafer, ...

Corsa: 16 mm
Velocità: 1,1 mm/s

... carichi relativamente elevati. Aree di applicazione Posizionamento di precisione nell'industria e nella ricerca nel vuoto spinto e in presenza di radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di wafer, allineamento ...