Piastre di posizionamento per manipolazione di wafer

Corsa: 1 mm - 40 mm
Velocità: 1 mm/s - 200 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... LA92 Asse lineare UHV ad alta velocità Applicazione: Applicazioni ad alta risoluzione e scansione veloce Vantaggi: Posizionamento veloce in UHV, anche in verticale Caratteristiche: Risoluzione eccezionale, molto sottile, ...

Corsa: 1 mm - 100 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... LT300 Stadio lineare preciso per carichi elevati Applicazione: Stadio di trasporto, stadio di scansione per carichi elevati Vantaggi: elevata durata nonostante il lubrificante a secco Caratteristiche: vite a piombo con lubrificazione ...

Corsa: 1 mm - 300 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,015 µm - 5 µm

... LA97 Stadio lineare nanometrico Applicazione: scansione Vantaggi: posizionamento nanometrico, anche in verticale Caratteristiche: posizionamento con estrema risoluzione e massima rigidità può essere ...

Corsa: 1 mm - 185 mm
Velocità: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... LA95 - Applicazione: fase di trasporto, fase di scansione - Vantaggi: elevata durata nonostante il lubrificante a secco - Caratteristiche: vite a piombo con lubrificazione a secco o vite a sfere con lubrificante liquido - ...

Corsa: 1 mm - 10 mm
Velocità: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,2 µm - 5 µm

... ad alta risoluzione Applicazione: microstadio multiuso Vantaggi: per la scansione ad alta risoluzione Caratteristiche: posizionamento ad altissima risoluzione - Vuoto: tutti i campi di pressione HV /UHV fino a 10E-11 ...

Corsa: 1 mm - 50 mm
Velocità: 1 mm/s - 50 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... magnetismo e senza magnetismo - Diverse varianti di motore: Motore Nanomotion o piezoelettrico - Combinabile con sistema di posizionamento XYZ (ad es. MT105) - Combinabile con stadi rotanti (ad es. DT105) per applicazioni ...

Corsa: 1 mm - 100 mm
Velocità: 1 mm/s - 10 mm/s
Ripetibilità: 0,4 µm - 5 µm

... KDT300 Stabile stadio xy ad alto carico Applicazione: stadio di trasporto, stadio di scansione per carichi elevati Vantaggi: - elevata durata nonostante il lubrificante a secco Caratteristiche: durata elevata nonostante la lubrificazione ...

Corsa: 1 mm - 16 mm
Velocità: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Ripetibilità: 1 µm - 5 µm

... HT160 Stadio di sollevamento verticale di precisione per carichi elevati Applicazione: stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: elevata rigidità e carico Caratteristiche: cuneo con vite a ricircolo di sfere - Vuoto: tutte le gamme ...

Corsa: 1 mm - 16 mm
Velocità: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Ripetibilità: 0,7 µm - 5 µm

... HDT255 Tavolo di sollevamento ad alta apertura di carico Applicazione: stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: - elevata rigidità e carico, apertura Caratteristiche: piattaforma a cuneo con apertura - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV ...

Corsa: 1 mm - 25 mm
Velocità: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Ripetibilità: 0,3 µm - 5 µm

... HT240 Stadio di sollevamento verticale di precisione per carichi elevati Applicazione: Stadio di sollevamento a vuoto Vantaggi: elevata rigidità e carico Caratteristiche: cuneo con mandrino a vite a sfera - Vuoto: tutte le gamme HV ...

Corsa: 500 mm - 8.000 mm
Velocità: 500 mm/s - 3.000 mm/s
Ripetibilità: 0,02 mm

... Sistema di posizionamento XYZ a portale lineare Modulo vite a sfera ad alta velocità Guida a binario a corsa lunga Il cliente ha sottolineato che l'apparecchiatura di prova deve avere una struttura stabile e precisa. ...

Corsa: 10 mm
Velocità: 200 mm/s

... profilo per la movimentazione dei wafer e molte altre applicazioni automatizzate di posizionamento accurato nell'industria dei semiconduttori. L'azionamento lineare con motore lineare XY drive fornisce ...

Corsa: 200 mm
Velocità: 400, 800 mm/s

Corsa: 280 mm
Velocità: 400, 800 mm/s

Corsa: 350 mm
Velocità: 800, 400 mm/s

Corsa: 30, 50, 100 mm
Velocità: 5, 50 mm/s

... elevati - Diverse varianti di motore: Nanomotion, motore piezoelettrico o motore lineare - Combinabile con il sistema di posizionamento XYZ - Combinabile con tavole rotanti (ad es. DT105) per applicazioni rotanti - Adattamento ...

Corsa: 100, 50 mm
Velocità: 5 mm/s
Ripetibilità: 0,5 µm - 4 µm

... questo sistema di posizionamento raggiunge una stabilità nell'intervallo dei nanometri. Campi di applicazione Tecnologia dei semiconduttori in ultra-alto vuoto e sotto radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di ...

Corsa: 60, 130 mm
Velocità: 5 mm/s
Ripetibilità: 0,5 µm - 4 µm

... Consente un posizionamento estremamente fine con carichi elevati in ultra-alto vuoto, anche in direzione verticale. Aree di applicazione Configurazione di sistemi multiasse, automazione di processo, scansione 3D, scansione ...

Corsa: 25 mm
Velocità: 1,7 mm/s

... relativamente elevati. Aree di applicazione Posizionamento di precisione nell'industria e nella ricerca nel vuoto spinto e in presenza di radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di wafer, ispezione ...

Corsa: 16 mm
Velocità: 1,1 mm/s

... carichi relativamente elevati. Aree di applicazione Posizionamento di precisione nell'industria e nella ricerca nel vuoto spinto e in presenza di radiazioni ultraviolette estreme, allineamento di wafer, ...