Piastra di posizionamento rotativa DT105

piezoelettrica2 assiad anello chiuso

Stadio rotante ad alta risoluzione con apertura HV / UHV, DUV, camera bianca ISO 6, n x 360°, rep 0,0005°, carico 3 kg, velocità 270°/s - Camera bianca: varianti fino alla classe ISO 6 (superiori su richiesta) - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV fino a 10-11 mbar - Liquido di lubrificazione fino a 10-8 mbar / configurazione speciale a secco fino a 10-11 mbar - Max. Temperatura di cottura: 100°C Configurabile opzionalmente: - Disponibile in versione magnetica e a bassa magnetizzazione (senza magneti come configurazione speciale) configurazione speciale) - Scelta del materiale e lubrificazione adattata all'applicazione - Opzionale con il controllore FMC400/450 - Sviluppo personalizzato con progettazione 3D, prototipi e produzione in serie Imaging ad alta risoluzione in uno spazio di installazione limitato Questo stadio rotante compatto e piatto consente di ottenere risoluzioni estremamente elevate nel vuoto durante processi rapidi. La luce trasmessa di 36 mm consente il posizionamento preciso, la misurazione e l'analisi di piccoli campioni. Può essere combinato in sistemi multiasse impegnativi ed è facilmente controllato dai nostri controllori FMC 400/450. Campi di applicazione Microscopia dinamica e di alta precisione, ad esempio AFM, microscopio elettronico, microscopio ionico, microscopio elettronico a scansione, microscopio a scansione tunneling, microscopia di laboratorio, sistemi di imaging, analisi dei campioni, strumentazione per linee di luce, sincrotrone, ricerca sui materiali, analisi dei materiali