Piastra di posizionamento rotativa DT155

piezoelettrica1 assecompatta

Stadio rotante ad alta risoluzione con grande apertura UHV, DUV / EUV, camera bianca ISO 6, n x 360°, rep 0,0003°, velocità 300°/s, carico 5 kg - Camera bianca: varianti fino alla classe ISO 6 (superiori su richiesta) - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV fino a 10-11 mbar - Lubrificazione: liquida fino a 10-8 mbar / secca fino a 10-11 mbar - Max. Temperatura di cottura: 100°C Configurabile opzionalmente: - Disponibile nelle versioni magnetica e a bassa magnetizzazione (senza magneti su richiesta) - Scelta del materiale e lubrificazione adattata all'applicazione - Opzionale con il controllore FMC400/450 - Sviluppo personalizzato con progettazione 3D, prototipi e produzione in serie Immagini dinamiche e di alta precisione Questo stadio rotante compatto e piatto consente di ottenere risoluzioni estremamente elevate nel vuoto durante processi rapidi. Grazie all'ampia luce trasmessa di 79 mm, è possibile posizionare, misurare e analizzare con precisione anche campioni di grandi dimensioni. Può essere combinato in sofisticati sistemi multiasse e può essere facilmente controllato tramite i nostri controllori FMC 400/450. Campi di applicazione Microscopia dinamica e di alta precisione, ad esempio microscopio elettronico, microscopio ionico, microscopio elettronico a scansione, microscopio a scansione tunneling, strumentazione per linee di luce, sincrotrone, ricerca sui materiali, analisi dei materiali, ispezione dei wafer, controllo di qualità dei semiconduttori, ricerca sui semiconduttori