Piastra di posizionamento XYZ MP53
piezoelettrica3 assia rulli incrociati

Piastra di posizionamento XYZ - MP53 - Steinmeyer Holding GmbH - piezoelettrica / 3 assi / a rulli incrociati
Piastra di posizionamento XYZ - MP53 - Steinmeyer Holding GmbH - piezoelettrica / 3 assi / a rulli incrociati
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Caratteristiche

Orientazione
XYZ
Tipo
piezoelettrica
Numero di assi
3 assi
Altre caratteristiche
di precisione, industriale, per microscopio, per manipolazione di wafer, a rulli incrociati
Corsa

10 mm
(0,394 in)

Velocità

5 m/s
(16,4 ft/s)

Ripetibilità

Min.: 0,2 µm

Max.: 0,3 µm

Carico

0,5 kg
(1,1 lb)

Descrizione

Microposizionatore rapido e preciso HV / UHV / EUV, corsa 20 - 50 mm, ripetibilità 0,2 µm, carico 1 kg - Vuoto: tutte le gamme HV / UHV / EUV - Liquido di lubrificazione fino a 10-8 / secco fino a 10-11 mbar - Max. Temperatura di cottura: 120°C Configurabile opzionalmente: - Disponibile in versione magnetica, a basso magnetismo e senza magnetismo - Diverse varianti di motore: Motore piezoelettrico o nanomotion - In opzione con sistema di misura ad alta risoluzione per una ripetibilità fino a 0,005 µm - Combinabile con tavole rotanti per applicazioni rotative - Adattamento individuale alla situazione di installazione nella camera di lavoro - Versione per camera bianca ISO 14644-1 (fino alla classe 1 su richiesta) - In opzione con controllore FMC400/450 Manipolatore XYZ miniaturizzato per applicazioni di alta precisione o dinamiche Il manipolatore è un sistema a 3 assi altamente dinamico per il movimento X, Y e Z in uno spazio di installazione molto limitato. Si possono realizzare corse fino a 50 mm. Il manipolatore è dotato di motori piezoelettrici e può quindi realizzare incrementi di posizionamento di pochi nanometri per applicazioni di alta precisione in alto vuoto e ultra alto vuoto. Equipaggiato opzionalmente con un nanomotore, è particolarmente adatto per posizionamenti altamente dinamici e di alta precisione. Aree di applicazione Posizionamento di precisione in spazi molto ridotti per applicazioni di laboratorio, microscopia e tecnologia dei semiconduttori, ricerca nel vuoto spinto e sotto radiazioni ultraviolette estreme, preparazione del campione, scansione del campione, manipolazione del campione, regolazione della telecamera, regolazione del sensore, ricerca sui materiali, analisi dei materiali, linea di fascio, acceleratore, sincrotrone, miniaturizzazione

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