Fotodiodo a valanga C30737LH-230-92N
a infrarossisensibile alle lunghezze d'ondaLIDAR

Fotodiodo a valanga - C30737LH-230-92N - Excelitas Technologies - PCO - a infrarossi / sensibile alle lunghezze d'onda / LIDAR
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Caratteristiche

Specificazioni
a valanga, a infrarossi, sensibile alle lunghezze d'onda, LIDAR, in silicio
Montaggio
chip on carrier

Descrizione

Descrizione del prodotto
Il C30737LH-230-92N è un fotodiodo a valanga in silicio (Si APD) con diametro attivo di 230 μm, risposta migliorata a 900 nm e banda ottica centrata a 905 nm in un contenitore ceramico senza terminali (LCC). Progettato per il rilevamento filtrato ad alta velocità in package compatti, offre risposta temporale rapida e selettività ottica stretta.

Caratteristiche principali
  • Alta responsività filtrata a 905 nm
  • Basso rumore e tempo di salita estremamente rapido su tutte le lunghezze d'onda con risposta in frequenza superiore a 380 MHz
  • Diametro attivo 230 μm ottimizzato per funzionamento a 900 nm
  • Filtro ottico banda-pass integrato a 905 nm
  • Opzione contenitore ceramico senza terminali (LCC) per montaggio compatto

Applicazioni
  • Sistemi LiDAR
  • Sistemi di misurazione della distanza laser
  • Dispositivi di sicurezza e scansione
  • Applicazioni con vincoli di costo che richiedono un rivelatore ad alte prestazioni

Specifiche tecniche
  • Diametro attivo: 230 μm
  • Lunghezza d'onda di sensibilità massima: 905 nm
  • Tensione di breakdown (Vbd): 180–260 V (binning disponibile)
  • Coefficiente di temperatura di Vop per M costante: 1,3 V/°C
  • Gain: 100 @ 900 nm
  • Responsività: 60 A/W a 900 nm
  • Corrente di buio (Id): tip. 0,05 nA, max <0,5 nA
  • Corrente di rumore: 0,1 pA/√Hz
  • Capacitance: 0,6 pF
  • Tempo di salita/discesa: 0,9 ns (Rload = 50 Ω)
  • Frequenza di taglio: 380 MHz
  • Temperatura di stoccaggio: -50 °C a +100 °C
  • Temperatura operativa: -40 °C a +85 °C
  • Package: finestra in vetro 3 x 3 mm, contenitore ceramico senza terminali (LCC)
  • Finestra: filtro 905 nm

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electronica Munich 2026
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10-13 nov 2026 Munich (Germania) Hall B4 - Stand 302

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