Fotodiodo a valanga C30737MH-230-90N
LIDARvista dall'altosensibile alle lunghezze d'onda

Fotodiodo a valanga - C30737MH-230-90N - Excelitas Technologies - PCO - LIDAR / vista dall'alto / sensibile alle lunghezze d'onda
Fotodiodo a valanga - C30737MH-230-90N - Excelitas Technologies - PCO - LIDAR / vista dall'alto / sensibile alle lunghezze d'onda
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Caratteristiche

Specificazioni
a valanga, LIDAR, vista dall'alto, sensibile alle lunghezze d'onda, in silicio, a infrarossi
Montaggio
chip on carrier

Descrizione

Panoramica del prodotto
Il fotodiodo a valanga in silicio C30737MH-230-90N (Si APD) offre un diametro attivo di 230 µm ed è ottimizzato per una risposta rinforzata a 900 nm. È fornito in un package laminato senza piombo (LLC) con opzione MH per integrazione compatta top-looking.

Caratteristiche principali
  • Alta responsività tra 500 e 1000 nm, ottimizzata a 900 nm
  • Basso rumore e tempi di salita molto rapidi con risposta in frequenza oltre 380 MHz
  • Diametro attivo di 230 µm per efficiente raccolta della luce
  • Opzione package laminato senza piombo 'MH' per montaggio compatto

Applicazioni
  • Sistemi LiDAR
  • Rilevamento di distanza laser
  • Apparecchiature di sicurezza e scansione
  • Applicazioni di rivelazione ad alte prestazioni e costi contenuti

Caratteristiche / Specifiche tecniche
  • Diametro attivo: 230 µm
  • Lunghezza d'onda di sensibilità massima: 900 nm
  • Tensione di breakdown (Vbd): 180–260 V (binning disponibile)
  • Coefficiente di temperatura di Vop per M costante: 1,3 V/°C
  • Guadagno: 100 @ 900 nm
  • Responsività: 60 A/W a 900 nm
  • Corrente di buio (Id): tip. 0,05 nA, max <0,5 nA
  • Corrente di rumore: 0,1 pA/√Hz
  • Capacitance: 0,6 pF
  • Tempo di salita/discesa: 0,9 ns (Rload = 50 Ω)
  • Frequenza di taglio: 380 MHz
  • Temperatura di stoccaggio: -50 °C a +100 °C
  • Temperatura di esercizio: -40 °C a +85 °C
  • Package: 2 x 1,75 mm top-looking FR4 epoxy, package laminato senza piombo (LLC)

Cataloghi

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Fiere

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electronica Munich 2026
electronica Munich 2026

10-13 nov 2026 Munich (Germania) Hall B4 - Stand 302

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